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專區介紹 (南港展覽館二館4F, 攤位編號R8006)

隨著全球對半導體供應鏈韌性、高階廠務永續性及次世代製程技術的需求增加,北歐各國正透過「北歐晶片聯盟」(Nordic Chip Alliance)深化產業合作。根據北歐晶片聯盟的官方報告指出,北歐半導體產業近年展現穩健擴張,2023 年總產值已達 57 億歐元,自 2019 年以來大幅增長 36%,整個生態系擁有超過 300 家活躍企業,整體就業人口達到 22,000 人。北歐半導體的核心優勢領域包括:晶片設計與微電子(Chip Design & Microelectronics)、微機電與感測器(MEMS & Sensors)、先進材料與製程(Advanced Materials & Processing),以及高科技廠務設施與先進檢測等解決方案。


今年瑞典與芬蘭攜手於SEMICON Taiwan設立國家館,匯聚來自兩國的創新企業與前瞻技術。瑞典在高科技廠務、半導體設備及MicroLED領域擁有深厚產業基礎;芬蘭則在低溫超導、先進材料、光電與量子科技相關技術方面享譽國際。雙方共同展現北歐在半導體產業鏈上的研發實力與創新潛力。

本次特別邀請兩國相關領域企業參展:

1,高科技廠房廠務與供應鏈解決方案

  • Alfa Laval (瑞典): 總部位於瑞典隆德,為全球熱交換、分離及流體處理解決方案領導品牌。憑藉創新且成熟的技術,協助高科技廠房提升能源效率,實現冷卻優化、熱能回收與再利用。從終端品牌到設備製造商,Alfa Laval與產業生態系緊密合作,共同推動資料中心及半導體產業的下一代散熱與永續發展解決方案。

  • Roxtec (瑞典):為全球模組化電纜與管道密封解決方案領導品牌,提供經認證的防火、防水、防氣體、防塵、抗震動及抗電磁干擾保護。其解決方案廣泛應用於半導體等關鍵產業,協助廠房提升安全性、維持營運不中斷,並支援設施全生命週期的可靠運作與升級擴充需求。

  • Camfil (瑞典): 創立於1963年,深耕台灣二十餘年,致力於提供永續且高效節能的空氣過濾與污染控制解決方案。服務涵蓋半導體、製造、醫療等產業,協助客戶提升空氣品質、降低能耗並保護關鍵製程與設備。Camfil秉持「Clean Air, A Human Right(潔淨空氣是基本人權)」理念,推動更健康且永續的環境。

  • Nefab (瑞典):耐帆致力於透過高效能客製化工業包裝與物流解決方案,協助企業優化供應鏈管理,同時降低成本與環境影響。結合包裝工程、物流服務及數位化工具,Nefab提升運輸效率、產品保護與供應鏈韌性,為半導體、AI資料中心及高科技產業創造永續價值。

2先進半導體設備、材料與檢測技術

  • AlixLabs (瑞典): 開發先進半導體圖案化設備,其APS™Atomic Pitch Splitting)技術可在現有產線基礎上,以更少製程步驟與更低能耗實現先進製程節點。該技術已成功於量產晶圓驗證3奈米等級邏輯製程,首批設備預計於2027年出貨,助力半導體產業提升效率與降低成本。

  • Obducat (瑞典): 為全球領先微米與奈米結構製造技術供應商,提供奈米壓印微影設備、光阻與濕製程解決方案,以及自有技術代工服務。其技術廣泛應用於光學、光子、電子、感測器及生醫裝置等領域,協助客戶開發先進元件,總部設於瑞典隆德。

  • Excillum (瑞典): 為全球領先的X光源技術公司,專注開發、生產全世界最高亮度工業及科研用X光設備。透過與頂尖學術、產業及系統整合夥伴合作,推動科學研究、醫療創新與先進製造發展。公司總部位於瑞典斯德哥爾摩,自2007年起持續突破X光源技術極限,提供業界領先的創新解決方案。

  • SisuSemi (芬蘭)專注解決半導體製程中的原子級瑕疵與污染問題,透過低於450°C的超高真空(UHV)製程重整矽表面原子,並形成結晶二氧化矽薄層。此技術可無縫整合現有產線,有效降低介面瑕疵密度與漏電流,進而減少30%元件功耗及發熱量,提升端對端(e2e)良率與製程效能。

  • Vexlum (芬蘭) 專精於研發高功率、單頻的「垂直外腔面發射雷射器」(VECSELs)。這項技術具備良好的波長覆蓋率與光束質量,主要應用於半導體先進檢測、光學計量,以及量子運算中用於原子冷卻與離子阱控制的核心光源,協助提升晶圓製造的精準度。

3, 先進晶片與MicroLED技術

  • Solinide Photonics (瑞典): 開發氮化矽(SiN)光學微梳技術,為次世代資料中心與AI基礎設施提供高效光通訊解決方案。單一光子晶片可取代數十個雷射元件,大幅降低共封裝光學(CPO)系統的功耗、成本與體積。憑藉超過60%轉換效率、28波長通道及與NVIDIA合作,打造超大規模資料中心與6G網路的光學骨幹。
  • Polar Light Technologies (瑞典):採用獨特的自下而上氮化鎵(GaNMicroLED架構,避免傳統蝕刻製程對發光層的損傷,實現超小尺寸、高亮度、高效率且易於量產的像素。其技術瞄準AR眼鏡、國防光學、微型顯示器及光互連等高階應用,滿足對亮度、解析度、能效與製造能力的嚴苛需求。

期待於 SEMICON Taiwan 瑞典芬蘭國家館與您相見!